Hallo,

ich habe jetzt ein paar Versuche hinter mir eine Platine (von Conrad, wahrscheinlich Bungard) herzustellen, scheitert aber immer am Entwickeln (mit 10g Natriumhydroxid auf 1l Wasser bei 23°C).

Die Platine (4x5cm) hat Stellen bei denen großflächig relativ feine Strukturen zu entwicklen sind, und auch eine relativ große Kupferfreie Fläche.

Jetzt habe ich das Problem, dass die Flächen mit den feinen Strukturen viel schneller entwickelt sind als die große freie Fläche. Die Strukturen direkt um die feinen Leiterbahnen sind immer als erstes frei vom Photolack (warum ist das so?) und wenn ich dann gewartet habe, bis auch die große Fläche vollständig entwickelt ist, sind die feinen Leiterbahnen überentwickelt und damit nach dem Ätzen unterbrochen.

Woher kommt das, dass um Leiterbahnen herum immer am schnellsten entwickelt ist (ist ja auch beim Ätzen so)? Wie kann ich das Ergebniss verbessern?

Ein anderes Design (ohne die freie Fläche) kommt in diesem Fall leider nicht in Frage, da es bei diesem Projekt auch um die Optik geht.


viele Grüße, tobi

Zitat :

Woher kommt das, dass um Leiterbahnen herum immer am schnellsten entwickelt ist (ist ja auch beim Ätzen so)?

Weil über dem Lack der Entwickler bzw. das Ätzmittel nicht verbraucht wird und deshalb die Konzentration dort am höchsten ist.
Etwas Bewegung sollte Abhilfe schaffen.

Möglicherweise ist auch deine NaOH durch Aufnahme von CO₂ aus der Luft viel geringer konzentriert als du glaubst.
Dann sinkt die Konzentration der Lauge durch die Reaktion mit dem Photoresist übermäßig ab und der Effekt, daß von den lackierten Stellen unverbrauchter Entwickler nachdiffundiert, ist besonders auffällig.
Das solltest du auch daran merken, dass die Entwicklung zu lange dauert.

Deshalb die Lösung nicht längere Zeit offen stehen lassen bzw. am besten immer frisch ansetzen.

Die Angabe 10g/Ltr. stimmt nicht immer. Teilweise wird auch 7g/Ltr angegeben. Ich wiege nicht, sondern teste mich immer an die richtige Konzentration heran (durch Zugabe von Entwickler, bis die Entwicklung abläuft). Beim Entwickel sollte man die Flüssigkeit nicht kontinuierlich bewegen. Man kann zum Schluß vorsichtig mit einem weichen Läppchen oder Watte, die angelösten Reste des Lackes wegwischen.

Ich ätze in einer Schale und helfe mit einer Injektionsspritze dort nach, wo das Ätzen langsamer verläuft, indem ich diese Stellen zusätzlich mit der Spritze besprühe.
Gruß
Peter

Eventuell belichtest Du falsch.

Mit guter Vorlage hatte ich noch nie Probleme beim Entwickeln, manchmal aber beim Ätzen. Nehme eine gute Vorlage, die auch wirklich deckend ist. Dann ist es ratsam, mit einer Punktlichtquelle zu entwickeln. Die Photoschicht ist dann leicht trapezförmig, zur Kupferfläche hin breiter werdend. Nimmst Du einen Belichter mit vielen Leuchtstofflampen, ist es genau umgekehrt, dann wird es zur Kupferfläche hin dünner. Erstelle die Vorlage so, daß der Druck Kontakt zur Platine hat, also nicht mit der unbedruckten Seite auf die Platine legen.
Ich nehme seit vielen Jahren einen Entwickler von Seno. Der gefällt mir besser als NaOH, nicht so aggressiv. Das Zeugs heißt Seno 4006, hat aber nicht jeder Händler.
Wie fein sind deine Strukturen/Leiterbahnen?

DL2JAS

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mir haben lehrer den unterschied zwischen groß und kleinschreibung und die bedeutung der interpunktion zb punkt und komma beigebracht die das lesen eines textes gerade wenn er komplizierter ist und mehrere verschachtelungen enthält wesentlich erleichtert